Como material cerámico importante,  el polvo de nitruro de silicio (polvo de Si3N4 HW-L559) se puede utilizar para preparar láminas fundidas a base de nitruro de silicio. Este tipo de lámina fundida tiene muchas aplicaciones y funciones importantes. Su proceso de preparación incluye  preparar nitruro de silicio en una suspensión y luego recubrirlo uniformemente sobre el sustrato a través del proceso de flujo, y forma rodajas finas después del secado y solidificación. A continuación se presentarán varias funciones principales que desempeñan los polvos de nitruro de silicio en las láminas fundidas :  

En primer lugar, tiene  excelentes propiedades mecánicas. Debido a la alta intensidad y dureza del Si3N4, las láminas preparadas tienen una excelente resistencia a la compresión y a la abrasión, lo que le permite mantener un rendimiento estable en altas temperaturas, alta presión y ambientes hostiles. Por lo tanto, se usa ampliamente en los campos de la industria aeroespacial, automotriz, equipos químicos y otros campos para fabricar materiales estructurales, sellos y piezas mecánicas de alta temperatura.

En segundo lugar, tiene  una excelente resistencia a la corrosión. Como el polvo de nitruro de silicio tiene buena estabilidad química, las láminas se pueden utilizar en un entorno de una variedad de medios ácidos-base, solventes y gases corrosivos. Esto hace que las rodajas de nitruro se hayan utilizado ampliamente en los campos químico, electrónico, médico y biológico. Por ejemplo, se puede utilizar para fabricar contenedores de ácido-álcali, reactores y sensores químicos, así como dispositivos médicos corrosivos y materiales de biomasa.

Además, la  lámina fundida con polvo de nitruro de silicio si3n4 también tiene un  buen rendimiento de aislamiento eléctrico y conductividad térmica. Puede mantener un alto rendimiento de aislamiento a altas temperaturas y al mismo tiempo tener una alta conductividad térmica. Esto ha llevado a la aplicación generalizada de películas de nitruro de silicio en dispositivos electrónicos, gestión térmica y aplicaciones con alta demanda de disipación de calor. Por ejemplo, en la industria electrónica, la película de nitruro de silicio se puede utilizar como sustrato de disipación de calor para dispositivos electrónicos de alta potencia, exportando eficazmente el calor generado y manteniendo la temperatura de funcionamiento normal de los componentes electrónicos.

La  lámina fundida con polvo de nitruro de silicio si3n4 también tiene excelentes características electrónicas, como un excelente rendimiento de aislamiento y banda ancha. Esto lo ha hecho ampliamente utilizado en el campo de los dispositivos optoelectrónicos. Se puede utilizar como capa reflectante superficial de células solares para mejorar eficazmente la eficiencia de la conversión fotoeléctrica.

En resumen, los polvos de Si3N4 desempeñan un papel importante en la preparación de láminas fundidas . Con el avance continuo de la ciencia y la tecnología, se cree que el campo de aplicación del nitruro de silicio seguirá expandiéndose, aportando más innovación y desarrollo a todos los ámbitos de la vida.